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硅靶廣泛應(yīng)用于光學(xué)、光電子、半導(dǎo)體、觸摸屏等領(lǐng)域器件鍍膜。

元素符號(hào):Si
純度:4N+
形狀:平面靶；旋轉(zhuǎn)靶
外觀:深灰色，半金屬
典型密度:2.32g/cm3
常規(guī)尺寸:平面靶: 500x500x30mm
旋轉(zhuǎn)靶: L4000mm
其它尺寸可定制


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